Nanoindustry Russia
ФОРМИРОВАНИЕ СВЕРХПРОВОДЯЩИХ ПЛЁНОК NB3AL ДЛЯ ИНТЕГРАЛЬНОГО ОДНОФОТОНН ОГО ДЕТЕКТОРА В ПЛАНАРНЫХ ИОНН ЫХ ЛОВУШКАХ
С.Ю. Хыдырова, К.М. Моисеев, В.А. Кулаков, А.И. Ломакин, Б.Р. Гусейнов, Л.Е. Лысов, В.В. Ковалюк, Барков Константин Александрович, Г.Н. Гольцман
Abstract
В работе формируются совместным магнетронным распылением плёнки NbxAl1-x для интегральных сверхпроводниковых однофотонных детекторов. Экспериментально определена зависимость поверхностного сопротивления плёнок Nb-Al от толщины, в диапазоне толщин от 10 до 400 нм зависимость имеет степенной характер. Выявлено, что при увеличении мощности магнетрона Nb от 150 до 550 Вт удельное сопротивление плёнок Nb75Al25 снижается с 337 до 156 мкОм∙см. Для плёнки Nb75Al25 толщиной 350 нм определена критическая температура TC =3,7 К и RRR300/10 = 1,047. В результате отжига в высоком вакууме при температуре 600 °C рентгеноаморфная плёнка Nb75Ge25 толщиной 100 нм, по данным XRD, кристаллизуется с образованием фазы нанокристаллического Nb, при этом сверхпроводящих свойств выше 1,7 К не обнаружено; плёнка толщиной 20 нм после отжига остаётся рентгеноаморфной. Экспериментально показано, что осаждение плёнки Nb80Al20 на нагретую подложку при 600 °C увеличивает ширину и снижает температуру сверхпроводящего перехода с 3,76 до 3,69 К.