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世界初極端紫外領域における「超蛍光」の観測

ハリーズ ジェームズ, 晋 久間

Published Mar 18, 2020• 0 citations
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Abstract

SACLA の軟X 線ビームラインBL1 を用いて、世界で初めて極端紫外領域（EUV, extreme ultra-violet）における「超蛍光」の観測に成功した[1]。励起状態にある複数の原子（又は分子等）が協調し発光をする現象「超蛍光」は、基礎的な量子光学現象として注目を浴びる一方、コヒーレンス性の高い光源としての利用や、感度の高い検出法として期待されている。可視光領域では多くの実用例はあるが、今回初めて短波長領域への展開に成功した。ここでは今回の観測の詳細について紹介し、今後の期待を簡単に述べる。

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•Jan 1, 2020•0 citations

Nanometer resolution mask lithography with matter waves

Torstein Nesse, Ingve Simonsen, Bodil Holst

Mask based pattern generation with photolithography is a crucial step in microchip production. The next generation Extreme Ultra Violet (EUV) lithography instruments with a wavelength of 13.5 nm is currently under development. In principle this allows patterning down to a few nm resolution in a single exposure. However, there are many technical challenges due to the very high energy of the photons among others. Lithography with metastable atoms has been suggested as a cost effective, less complex alternative to EUV lithography. The big advantage of atom lithography is that the kinetic energy of an atom is much smaller than that of a photon for a given wavelength. However up till now no method has been available for making masks for atom lithography that can produce arbitrary, high resolution patterns. Here we present a solution to this problem. We show that it is possible to make masks based on binary holography that can generate arbitrary patterns down to a few nm resolution using a state of the art metastable helium source. We compare the flux of this source with that of an established EUV source (ASML, NXE:3100) and show that patterns can potentially be produced at comparable speeds. Finally we present an extension of the grid based holography method for a grid of hexagonally shaped subcells. Our method can be used with any wave beam, including other matter wave beams such as helium ions or electrons.

•Mar 30, 2018•0 citations

光の異常な伝搬を電気回路でシミュレートする

Masao Kitano, Nakanishi, Toshihiro

最近の実験技術の進展によって, 光パルスの伝搬速度(群速度)を光速cより大きくしたり, 逆に自転車なみの速度に減速させ, さらには停止させることすら可能になってきた. このような異常光伝搬は応用面から強い関心が寄せられているのみならず, 波動伝搬の物理を再検討する契機にもなっている. 本稿では電気回路による光の伝搬のシミュレーションを通して, 超光速群速度の物理的意味や光パルス凍結の原理に迫る.

•Oct 5, 2006•0 citations

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•Sep 1, 2020•0 citations

フォトニック結晶によるスローライト生成

T. Baba, 森, 大祐

伝搬が極端に遅い光（スローライト）は,光信号の圧縮,バッファ,畳込み積分演算,ビームフォーミング,吸収・利得や非線形の増大など,様々な効果をもたらす.このような光は,材料や構造の極めて大きな分散を利用することで実現される.特にフォトニック結晶導波路は室温で容易にスローライトを発生させるので,種々のデバイス応用が期待されている.本稿ではスローライトの低速化と周波数帯域の関係など,本質的な課題を解説しながら,スローライトデバイスの可能性を議論する.

•Jun 1, 2006•0 citations

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